①XERFに搭載された特許技術「Wave Fit Pulse」
照射時間、休止時間、そして冷却のタイミングを照射ごとに最適化する独自のパルス制御システムです。従来の連続照射と比較して、断続的な照射と適切な休止時間を設けることで、皮膚への急激な温度上昇を防ぎます。これにより、一点に集中する熱エネルギーが分散され痛みの軽減ができます
XERFのハンドピースには、「ICD(Integrated Contact Cooling Device)クーリングシステム」と呼ばれる、3段階の精密な冷却機能が搭載されています。照射と同時に皮膚表面を冷却することで、熱エネルギーが表皮に過剰に伝わるのを防ぎます。これにより、皮膚表面の温度上昇を抑制し、熱感による痛みを大幅に軽減するとともに、熱傷のリスクを最小限に抑えます。
従来の1つの周波数(6.78MHz)では、深部まで十分な熱エネルギーを届けるためには高出力が必要となり、それが痛みの原因となっていました。しかし、XERFは、皮膚への熱効率が良い6.78MHzと深部への浸透性に優れた2MHzを同時に照射することで、より低い出力でも効率的に深部を加熱することが可能です。これにより、皮膚への刺激を抑えながら、しっかりとたるみや脂肪層にアプローチできるため、痛みを軽減しながら高い効果が期待できるのです。
これらの高度な技術が組み合わさることで、従来のRF治療のデメリットであった痛みを軽減し、より快適で効果的なたるみ・肌質改善治療を実現しています。